CITAZIONE (Hellblow @ 9/3/2006, 01:50)
Salve...
Secondo me è possibile realizzare tali antenne usando le tecniche di sputtering, in particolare asportando materiale tramite bombardamento di fasci di elettroni accelerati e focalizzati opportunamente.
Tuttavia le dimensioni renderebbero la superficie facile da 'sporcare', ovvero potrebbe accumularsi materiale che ricoprendo la superficie faccia perdere all'insieme le sue caratteristiche. Quindi si dovrebbe ricoprire con uno strato di materiale adatto a far passare le onde che interessano ma che faccia da barriera ad impurità e simili (se poi si frappone fra le varie antenne è ancora meglio), il tutto in una struttura rigida con integrato quello che serve al funzionamento del sistema (anche dissipazione?).
Quoto Elettrorik riguardo il diodo :O quello è un problema grosso...
Credo che la tecnica più facile sia quella dei semiconduttori.
Le tecnologie di maskering sui wafer di silicio arrivano tranquillamente a quelle dimensioni, anche meno.
In effetti l'Ion Implantation è simile allo sputtering, avviene per depositi successivi in ambiente gassoso attraverso delle mascherature che poi vengono rimosse. Ma non solo, grazie al drogaggio per ottenere una giunzione P-N potrebbero essere le antenne stesse i diodi di cui parlavamo. Addirittura pure il condensatore può essere integrato su wafer di Si. 
Per la pulizia della superficie, credo che il tutto dovrebbe essere protetto sottovetro vuoto. O forse si può annegare tutto in SiO2.
Edited by ElettroRik - 9/3/2006, 12:21
CITAZIONE(mariomaggi @ 8/3/2006, 12:48)
Avevo gia' buttato l'amo
Qui , sono contento che la discussione prosegua.
Ciao
Mario
Haha!!!! Ciao Mario!
Mi sento un po' .... cefalo!